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bias&ion cleaning
사용
공정중 Adhesiveness 와 uniformity를 높이기 위해 표면에너지를 증가시키는 전원장치로서 Etching, Glow Discharge, Bias용도로 주로 사용한다.
출력파형에 따라DC 및 펄스 전원으로 나누어지며, 주로 아크이온플레이팅 공정과 스퍼터링 공정에 적용된다.
 
정격사항
Model Power Specifications Type Remarks
Hercules 10 10 kW 1200V / 33.3A DC  
Hercules 20 20 kW 1200V / 50A DC  
EnerPulse 5 5 kW 800V / 12.5A (20~150kHz) Pulse  
EnerPulse 10 10 kW 800V / 25A (20~150kHz) Pulse  
EnerPulse 10MV 10 kW 1000V / 20A (10~50kHz) Pulse  
EnerPulse 10HV 10 kW 1400V / 20A (20~100kHz) Pulse  
* TBD (To be developed)
 
     
   
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