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atm. Plasma
사용
Genius series는 대기압하에서 플라즈마를 발생시키는 전원장치로 정현파 보다 빠른 Rising-time의 펄스를 공급하여 고밀도 플라즈마를 통해 공정 효율을 향상시켜준다. 또한, 넓은 범위의 주파수 제어가 가능하고, 플라즈마 밀도의 제어가 가능하여 다양한 플라즈마 처리가 가능하도록 해준다. 전극의 형태에 따라 Arc Jet 방식(Genius J-500, J-1000)과 DBD(Dielectric Barrier Discharge) 방식(Genius 2, 6, 10)으로 주로 사용되며 Cleaning, Surface Treatment, PR Ashing, Dry Etching 등에 주로 응용된다.
 
정격사항
Model Power Specifications Type Remarks
Genius J-500 500 W 8kV (20~50kHz) , Arc Jet Pulse  
Genius J-1000 1 kW 8kV (20~50kHz) , Arc Jet Pulse  
Genius 2 2 kW 10/12/15kV (20~60kHz) , DBD Quasi-Pulse  
Genius 6 6 kW 10/12/15kV (20~60kHz) , DBD Quasi-Pulse  
Genius 10 10 W 10/12/15kV (20~60kHz) , DBD Quasi-Pulse  
 
 
     
   
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